SK채용 공식블로그

따끈따끈한 정보! SK하이닉스 사원들이 직접 말하는 취업 노하우

SK하이닉스에 지원하시는 여러분 주목! SK하이닉스 서류부터 SKCT, 그리고 최종면접까지 합격한 사원들의 얘기를 들어보자! 마치 선배가 얘기해주는 듯한 사실적이고 유용한 꿀팁들과 하이닉스에 생활에 관한 내용들까지~ 본 에디터가 직접 취재해왔다.

 

SK Careers Editor 김시우


안녕하세요. SK Careers Journal 구독자 여러분! 이번엔 SK하이닉스에 입사한 지 약 6개월 된 사원 세 분과 함께 그룹 인터뷰를 진행했습니다. SKCT와 면접을 준비하는 과정 그리고 그 안에 자신만의 경험을 녹여내는 방법들을 듣기 위해서이지요. 또한 입사 후의 교육 과정들과 어떠한 인재가 SK하이닉스와 가장 맞을지에 대한 내용까지 물었습니다. 그럼 그 대답을 확인해 보도록 하시죠! 


Q. 자기소개 부탁드립니다.


Q. SKCT의 난이도와 그 준비 과정이 궁금합니다.
 류제광 사원  저는 일단 모든 문제를 다 푸는 것은 불가능하다고 생각했습니다. SKCT가 유난히 수리영역이 어렵다고 소문이 났었는데요. 그래서 욕심내지 않고 정확히 풀고, 오래 걸리겠다 싶은 것들은 과감하게 넘겼습니다. 그리고 저는 실행 역량과 심층 역량은 빠짐없이 풀었던 것 같습니다. 다른 영역과 달리 두 영역은 답이 정해져 있지 않다 보니 “나의 성향을 잘 보여줄 수 있겠다” 싶었기 때문입니다.

 

 김누리 사원  저는 SKCT의 문제들이 다른 시험들에 비해 정형화되지 않았다고 느꼈습니다. 저도 마찬가지로 실행역량 부문에서 최대한 일반적인 것들을 고르려고 노력했습니다. 아무래도 그런 부분에서의 답들이 실제 직무와 연관성이 높아 보였습니다.


 이종원 사원   SKCT가 다른 시험에 비해 유형이 가장 창의적이고 난이도가 높다고 생각했습니다. 저의 경우엔 시중에 파는 기출문제집을 한 권씩 사서 풀어보았고 시간을 재면서 풀었는데, 문제가 창의적이다 보니 그게 최선의 방법이 아니었나 생각합니다.

 

Q. 서류 작성 과정과 면접을 준비하는 과정에서 가장 도움이 되었던 경험이 있다면 무엇이 있을까요?  
 류제광 사원  저는 반도체 공정 연구실에서 Co-op 활동을 했습니다. 또한 한국나노기술원에서 주최하는 나노소자공정 이론교육과 실습교육을 받은 경험이 있는데요. 학교에서 배운 전공 지식과 직무 경험이 결합돼서 서류를 작성하기 편했습니다. 이런 경험이 필수적인 것은 아니지만 반도체 분야에 관심도를 표현하기에는 좋은 소스였습니다.

 

 김누리 사원  저는 인도로 5개월 정도 봉사활동을 간 적이 있었는데요 제 인생에서 가장 많은 걸 느낀 때여서 그 내용을 진솔하게 풀었을 때 반응이 좋았습니다. 그리고 자소서 같은 경우엔 저는 “읽는 사람 입장에서 생각해 보기” 를 가장 중요하게 생각해서 친구들한테 자주 보여주고 이해가 잘 되는지 항상 물어봤던 게 서류 합격 이유가 아닌가 싶습니다. :)

 

 이종원 사원  저 같은 경우 인성적인 부분에서 많이 어필했습니다. 저는 딱히 경험이 많지 않아서 동아리 활동을 하면서 팀 단위로 하나의 목표를 가지고 활동했던 경험을 서술했고 팀워크나 대인관계 부분을 강조했습니다.

 

Q. 직무 면접의 경우 어떻게 준비하셨나요?
 류제광 사원  내가 알고 있는 내용을 누군가에게 말로 표현해야 하는 면접의 특성을 잘 이해하려 노력했습니다. 반도체 용어에 대한 정의를 다시 한 번 정리하였고 반도체 공정에 대해 저 만의 방법으로 정리했던 것이 정말 큰 도움이 됐습니다. 실제로 백지에 타인에게 설명하듯이 쓰면서 준비했는데 신입사원 면접 임에도 불구하고 “자네, 어디서 일하고 왔나?”는 질문도 받았습니다. (웃음)

 

 김누리 사원  저도 전공과목 위주로 공부했습니다. 아무래도 저는 전공이 기계공학이다 보니 기본적인 역학 구조를 설명하는 것에 중점을 두고 공부했는데 모르는 문제가 나와도 기본적인 역학 틀 안에서 설명하려고 노력했습니다.

 

 이종원 사원  저도 공정 통합 직무에 지원하였기 때문에 반도체 공정의 기본적인 틀에 대해서 공부하였습니다. 아무래도 대학에서 배운 내용은 한계가 있다고 생각하는데요 제 개인적인 생각으로는 발표의 내용이 조금 틀리더라도 합격의 당락을 결정하는 요소는 자신감과 그에 대한 나만의 타당한 이유라고 생각합니다.

 

Q. 여태까지 입사 전의 내용들에 대해 질문하였는데요 이젠 입사 후로 넘어가볼까요? 하이닉스 공장이 보안에 굉장히 민감한 것으로 알고 있는데요 들어갈 때 보안 검색은 외부인만 받게 되어 있는지 혹은 이로 인한 불편함은 없었는지 궁금합니다.


 류제광 사원  SK하이닉스는 국가핵심기술보유기관으로 지정되어 있어 회사 구성원과 협력사 외에는 출입이 불가능 한 걸로 알고 있습니다. 카메라는 봉인 스티커로 붙여 이용할 수 없고 회사 건물마다 보안 검색대가 있어 소지품도 검사하게 되어 있습니다. 보안이 엄격하기 때문에 직원들 모두 불편함을 느낄 수 있지만 반도체 산업 특성상 기술 유출은 회사의 운명을 좌지우지할 수 있기 때문에 보안 검색은 필수가 아닐까 생각합니다.

 

 김누리 사원  보안 검사 때문에 급하게 건물 이동을 해야할 때 시간이 지체되는 경우가 있긴 합니다. 자료 이동이 조금 어려운 부분이 있고 개인 노트북과 USB 등 휴대용 저장 매체도 휴대가 제한되어 있습니다. 보통 외부에서의 문서나 이메일 열람은 불가능하지만 출장자 혹은 보안 승인을 받은 인원은 회사 외부에서도 문서나 이메일 열람이 가능합니다.

 

 이종원 사원  핸드폰 같은 경우 보안스티커를 부착하고 휴대용 가방등은 x-ray 검색대 같은 곳에 넣어 문서 유출을 방지합니다. 아무래도 기술력은 회사의 미래이기 때문에 더욱더 각별한 조치를 취하는 게 아닐까요.

 

Q. 직무에 배치되고 나서 자신이 맡은 직무에 대한 공부가 더 필요했을 것 같은데요. 교육프로그램이 따로 마련되어 있는지 혹시 그렇지 않다면 자신이 맡은 직무를 이해하기 위해 어떤 노력을 했는지 알 수 있을까요?
 류제광 사원  저 같은 경우 사내 인터넷 강의인 “스마트 쿠키”를 이용하는 편입니다. 언제 어디서든지 본인의 공정 직무에 관련된 교육을 받을 수 있고 다른 직무에 대한 교육도 받을 수 있습니다. 일을 하다 보면 모르는 것 투성인 데, 많은 노하우를 가지고 있는 선배들에게 묻거나 “스마트 쿠키”에서 직접 찾아서 공부하면 대부분 다 해결되더라구요. :)

 

 김누리 사원  연수 때 “반도체 현황과 기술에 대한 전반적인 기초 역량 그리고 반도체 공정 직무”등에 대한 부분을 교육받았습니다. 그리고 그룹 내에서 “가스를 어떻게 공급하고 관리하는지, 케미컬과 공조는 어떤 것인지 등” 전체 업무에 대한 교육을 받았는데요. 입사 후 프로그램이 많이 마련되어 있으니 이러한 부분들은 크게 걱정하지 않으셔도 될 것 같습니다.

 

 이종원 사원  선배님들이 공부하셨던 자료가 회사 클라우드 내에 정말 정말 많습니다. 틈내서 공부해도 퇴사할 때까지 다 못 볼 만큼의 자료들이라 와서 공부하는 것에 대한 노력은 얼마든지 하실 수 있을 겁니다.

 

Q. SK하이닉스를 지원하는 취준생 분들께 “SK하이닉스 입사를 위해 이런 역량을 가지고 있다면 좋을 것 같다!” 하는 게 있다면 말씀 부탁드립니다! 
 류제광 사원  반도체 공정에서는 흔히 'Recipe'라는 단어를 사용합니다. 훌륭한 셰프들은 계량기로 소스를 직접 측정하지 않아도 끊임없이 해온 노하우가 베어 있어 그 누구보다 맛있는 요리를 만들 수 있죠. 이러한 Recipe들엔 끊임없는 노력이 녹아있습니다. 반도체 산업 또한 같다고 생각합니다. 끝까지 해내려는 패기와 끈기가 중요하다고 생각하고 그러한 역량이 있는 사람이라면 SK하이닉스에서 만족스러운 생활을 할 수 있지 않을까 생각합니다.

 

 김누리 사원  요즘 Deep Change 부분이 강조되고 있는 것 같습니다. 기존 틀에서 벗어나 새로운 방식으로 생각하고 개선할 수 있는 능력이 중요합니다. 창의적인 마인드의 소유자라면 SK하이닉스 입사도, 입사 후 생활도 문제없을 것이라 생각합니다. 

 

 이종원 사원  하이닉스는 후배가 선배에게 언제든지 다가갈 수 있는 분위기입니다. 배우고자 하는 열정이 넘치고 팀워크에 문제가 없다, 하시는 분들이 오시면 정말 만족하실 것 같습니다. 열정 가득한 취준생분들이 꼭 합격하셔서 만나 뵐 수 있으면 좋겠습니다.

 

그룹인터뷰를 통해 면접과 SKCT 그리고 입사 후 노력까지 들을 수 있었습니다. SK하이닉스인이 되기 위해 그리고 더 앞으로 나아가기 위해 세 가지 중요 포인트를 정리해 보았습니다. 마치 당신인 것 같나요? 그럼 당신은 SK하이닉스인이 되기에 이미 충분한 인재인 것 같습니다. 

 

□ 열정과 패기 
□ 창의적인 사고
□ 배우고자 하는 노력


여러분의 SK하이닉스를 향한 도전에 사원 그룹인터뷰가 큰 도움이 됐기를 바라며 포스팅을 마치겠습니다. 모두들 파이팅! 그리고 인터뷰에 응해주신 류제광, 김누리, 이종원 사원님, 진심으로 감사드립니다. 



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반도체? 이 정도는 알고 가야지: (6) 박막증착 공정

안녕하세요 여러분! 반도체 공정 중 6번째 공정인 박막 공정(Thin film deposition) 시간입니다. 식각(Etching)공정을 완료한 웨이퍼가 이제는 박막이라는 옷을 입게 됩니다. 박막이란 1마이크로미터(μm) 이하의 얇은 막을 말하는데요. 이런 박막을 웨이퍼 위에 입히게 되면 전기적인 특성이 나타나게 되는 것이지요. 더욱 자세한 내용을 알아볼까요?!

 

SK Careers Editor 김시우

 

1. 박막 입히기 정말 막막...

위에서 언급한 것처럼 박막이란 정말 얇은 막을 말합니다. 웨이퍼보다도 훨씬 얇은 막을 어떻게 입히지, 라는 생각에 증착 공정이란 정말 막막해 보입니다. 반경이 100mm인 웨이퍼에 1 μm 박막을 씌우는 것은 마치 반경이 100m인 땅에 테이프 두께보다 더 얇은 막을 정교하게 입혀야 하는 것이니 정말 막막하지 않으신가요? 


따라서 이러한 박막 공정은 정말 정확하고 세밀한 작업을 요합니다. 모든 반도체 공정이 그렇듯 말입니다.

 

2. PVD와 CVD 
우선 박막을 만드는 방법은 크게 두 부류로 나뉩니다.  PVD(Physical Vapor Deposition)와 CVD(Chemical Vapor Deposition)이죠. 두 방법의 차이는 ‘물리적인 방법으로 증착하느냐, 화학적으로 증착하느냐’ 입니다. PVD는 또 크게 Thermal evaporation , E-beam evaporation , Sputtering으로 나뉩니다. 이렇게 말하니 벌써부터 막막하신가요? 따라서 아래 표를 준비했습니다!


 


<Deposition의 종류를 나타낸 표>


표를 보니 박막을 입히는 방법이 정말 많다는 것을 알 수 있겠죠? 이렇게 방법이 많은 이유는 각 방법마다 사용하는 재료가 다르고 장단점이 다 다르기 때문입니다.

 

먼저 PVD는 금속박막 증착에 주로 사용되고 화학반응을 수반하지 않는다는 게 특징입니다. 즉 물리적인 방법으로 박막을 증착한다는 것인데요. 그 중 하나인 Sputtering을 살펴보도록 하죠.

 

Sputtering 이란 아르곤(Ar) 가스를 이용해 증착하는 방식입니다. 먼저 진공 챔버에 Ar가스와 자유전자가 존재합니다. 이때 Ar 가스에 높은 전압을 가해주게 되면  이온으로 변화하게 됩니다. 증착이 되야할 기판엔 (+)전압을, 증착하고자 하는 물질인 타겟층엔 (–)전압을 걸어줍니다.


자유전자와 Ar 기체 간의 충돌로 이온화된 는 (-) 상태인 Target층과 부딪힙니다. 이후 Target 물질이 분리되어 기판(Substrate) 쪽으로 증착이 됩니다. 이후 Ar과 자유전자의 충돌은 끊임 없이 일어나며 증착이 진행됩니다.

 

<Sputtering 모식도>


두 번째 방식으로는 CVD가 있습니다. CVD란 Chemical Vapor Deposition 의 줄임말로 우리말로는 화학기상증착법이라고 불립니다. 가스의 화학 반응으로 형성된 입자들을 외부 에너지가 부여된 수증기 형태로 쏘아 증착시키는 방법인데요. 이는 도체, 부도체, 반도체의 박막 증착에 모두 사용 가능하다는 장점이 있습니다. 이러한 이유로 대부분의 반도체 공정에서는 화학적 기상증착방법을 사용하고 있습니다. 이중 특히 PECVD (Plasma Enhanced CVD)는 플라즈마를 사용해 저온 공정이 가능하고 두께 균일도를 조절할 수 있으며 대량 처리가 가능하다는 장점 때문에 가장 많이 이용되고 있습니다.

 

<PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 모식도>


여러분 혹시 식각(Etching)과정에서 “플라즈마” 상태 기억나시나요? 플라즈마란 이온, 자유전자, 중성원자 들로 이루어진 물질의 제4상태를 말합니다. PECVD의 원리를 간단히 설명하자면 반응시킬 기체를 주입하고 플라즈마 상태를 만들기 위해 전압을 수직으로 걸어줍니다. 따라서 플라즈마 상태로 이온화된 기체들이 서로 화학반응을 하여 원하는 물질이 기판에 고르게 쌓이게 되고 나머지 이온들은 결합하여 기체로 배출되게 되는 것이죠. 이해가 되셨나요?

 

3. PVD와 CVD 장단점과 주요인자

 

 장점

단점 

 PVD

 * 저온공정

 * 진공상태 (불순물 오염 적음) 

 * 증착속도 느림

 * 박막 접합성 떨어짐

 CVD

 * 접합성 및 박막 품질 좋음 

 * 고온공정으로 인한 재료 선택 문제

 * 두께 조절 컨트롤 어려움 존재 

<PVD, CVD 장단점을 나타낸 표>


PVD와 CVD는 방법이 다를 뿐만 아니라 장단점도 다르며 그 안에서의 방법들도 많은 차이가 있습니다. 증착에서의 주요 인자로는 품질, 두께 균일도, Step Coverage , Filling이 있는데요, 모두 균일함을 나타내는 요소라고 할 수 있겠습니다.


자, 여러분! 이번 시간은 부도체인 실리콘 웨이퍼가 전기적인 특성을 갖게 되는 증착 (Deposition) 공정에 대해 배워보았습니다. 증착을 할 때 중요한 요소는 바로 정교함입니다. 얼마나 균일하게 증착했는지가 반도체의 품질을 좌우하죠. 더욱더 발전하는 SK하이닉스의 증착 공정은 어떤 모습일지 지켜봐주세요~!



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반도체? 이 정도는 알고 가야지: (5)확산(Diffusion) 공정

안녕하세요, 여러분 오랜만입니다! 이번 시간에는 증착(Deposition) 공정이 아닌 확산(Diffusion) 공정을 진행해보려 합니다. 증착(Deposition) 공정 전에! 꼭! 알고 가야할 내용이 있어서 확산 공정부터 다루어 보려고 합니다. 확산 공정은 반도체 칩에 특별한 성질을 만들어 내는 정말 필수적인 요소이니까요! 그럼 지금부터 시작해볼까요?

 

SK Careers Editor 김시우


 

 

1. 확산(Diffusion) 공정이란?

먼저 확산(Diffusion) 공정이란 웨이퍼에 특정 불순물을 주입하여 반도체 소자 형성을 위한 특정 영역을 만드는 것입니다. 식각 과정을 거친 회로 패턴의 특정 부분에 이온 형태의 불순물을 주입하여 전자 소자의 영역을 만들어 주고, Gas간 화학 반응을 통해 형성된 물질을 웨이퍼 표면에 증착함으로써 여러가지 막을 형성하는 공정을 말합니다.

 

 

2. 들어가기 전에

확산 공정을 들어가기 전에 오늘 날에는 확산을 통한 공정을 진행하기보단 이온 주입(Ion Implantation) 또는 rapid thermal annealing 과정을 통해 진행한다는 점을 참고 하시는 게 좋습니다! 하지만 그러한 실제 공정 단계를 알기 위해 먼저 확산 공정에서의 다양한 문제점을 이해하고 가는 것이 중요합니다. 공정에서 말하는 확산 공정은 이온 주입과 annealing 과정을 포함한다고 봐도 무방할 것 같습니다.

*annealing 이란? 금속 재료를 적당한 온도로 가열한 다음 서서히 냉각시키는 조작을 일컬음

 

3. 확산 공정의 기본 

 

<침입형과 치환형 입자>


확산 공정은 먼저 실리콘 막에 얇은 불순물을 도핑 하는 것으로부터 시작합니다. 이때 도핑되는 방법에 따라 치환형 (Substitutional impurity atoms) 또는 침입형 (Interstitial impurity atoms) 두 가지 유형으로 나뉘는데요, 위 그림과 같이 말 그대로 실리콘 결정에 불순물이 “치환”해서 들어가느냐 또는 “침입”해서 들어가느냐 에 따라 나뉘는 것입니다.


모든 물질에는 그 물질의 고유한 패턴인 ‘격자’라는 것이 존재합니다. 즉 Si 격자 라고 하면 실리콘 입자들이 어떤 모습으로 분포해 있는지를 나타내는 말이지요. 격자라는 것이 이론적으로는 일정한 간격으로 표현되지만 실제 Si 격자는 몇몇 입자의 displacing (있어야 할 자리에 있지 않은 현상) 때문에 Vacancy 가 생길 수 밖에 없습니다. 이러한 Vacancy 에 치환형 입자가 들어가게 된다면 실리콘과는 조금 다른 물리적 전기적 특성을 띠게 되겠죠? 침입형 입자 또한 마찬가지 입니다. 이러한 침입형 또는 치환형 입자에는 붕소(Boron), 인(Phosphorus), 비소(Arsenic), 안티몬(Antimony) 등 이 있습니다.

 

 4. 확산 공정에서 중요한 두가지 조건


지난 시간 에칭 공정에서 주요 인자였던 균일도와 식각 속도 기억하시나요?
모든 반도체 제조 공정이 그러하듯 확산 공정도 그 과정이 균일하게 이루어져야 합니다.
따라서 실리콘에 불순물을 주입하여 원하는 IC(집적회로)를 모델링하기 위해, 중요한 두 가지 요소가 있습니다.


 1) Constant Source Diffusion
줄여서 CSD라고 표기하기도 하는데요 이는 확산 공정이 진행되는 동안 실리콘 표면의 불순물의 농도가 일정해야 함을 말합니다. 이 때 단위 면적당 총 불순물 입자의 수 즉 농도를 나타내는 말로 “dose”량 이라는 표현을 사용합니다. 


 2) Limited Source Diffusion
LSD. 이는 공정이 진행되는 동안 dose량이 일정해야 함을 말합니다. 또한 만약 실리콘 격자에 너무 많은 양의 불순물을 doping하게 되면 실리콘을 사용하는 의미가 없어지게 되겠죠?

 

<Ion Implantation>

 

5. 확산의 두 가지 STEP

확산은 두 가지 step으로 진행됩니다. 앞서 말한 CSD는 주로 실리콘의 얇은 표면 막에 불순물이 들어갈 때부터 적용됩니다. 이를 가리켜 pre-deposition step 이라고 말하지요. 두 번째 step은 (LSD) drive-in입니다.  이는 실리콘 표면으로부터 얼마나 깊게 까지 dose를 할 것이냐를 말하는 것이지요. 

 

오늘은 이렇게 pre-deposition -> drive-in 으로 진행되는 확산 과정에 대해 알아보았습니다. 하나의 반도체를 만들기까지 이렇게나 많은 절차가 필요하다니! 벌써 머리가 지끈거릴 수도 있겠지만 완성된 반도체를 꿈꾸며 마지막까지 파이팅입니다!


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반도체? 이 정도는 알고 가야지: (4)에칭(Etching) 공정

여러분 안녕하세요! [반도체 8대 공정] 시리즈가 새롭게 돌아왔습니다. 전 에디터인 이미진 에디터 님께서 에디터 활동을 마치신 관계로, 그 바통을 이어받아 공정 시리즈를 완성해보고 자 합니다! 전 에디터 님의 기를 이어받아~ 이번에 4번째 공정! 식각(Etching)공정부터 저와 함께 달려 보시죠~!

 

SK Careers Editor 김시우

 

<출처: http://www.limitedblue.com/list/view.php?id=limited_edition&page=5&sn1=on&divpage=1&sn=on&ss=off&sc=off&keyword=Limited%20Blue&select_arrange=headnum&desc=asc&no=30&PHPSESSID=9cc428a08586cae7da828aa7a86ed7be >

 

1. 식각(Etching)공정이란?

이전 3번째 포토(Photo Lithography) 공정에서 ”밑그림을 그린다~”라는 표현 기억하시나요? 이번 식각(Etching)공정에서는 밑그림 중 불필요한 부분을 없애는 즉, 회로의 패턴 중 필요한 부분만 남기고 불필요한 부분은 깎아내는 작업을 수행합니다. 더 자세히 말하자면 포토(Photo Lithography)공정에서 부식방지막(Photo Resist)을 형성했다면 식각 공정에서는 액체 또는 기체의 etchant를 사용하여 부식을 진행하여 불필요한 부분을 없애는 작업입니다. (이때 etchant 란 부식을 진행하는 물질을 통칭하는 말입니다.) 이러한 에칭 기법은 동판화를 작업하는 미술에서 자주 쓰이는 방법인데요 19세기 화가인 피사로(Camille Pissaro)와 드가(Edgar Degas) 역시 에칭을 이용해서 정교하고 세밀한 선을 살린 작품을 많이 만들어 냈다고 합니다.

 

 

<출처 http://www.skcareersjournal.com/194 >

 

2. 건식(Dry) 식각방법과 플라즈마(Plasma)

에칭 기법의 동판화 미술과 반도체 공정은 방법의 차이가 존재합니다. 미술에선 날카로운 조각도구들을 이용해 회로를 만들어 냈다면 공정에선 감광액 (Photo Resist)으로 보호막을 먼저 만들어 냅니다. 그리고 나서 식각(부식)을 진행하게 되는 것이죠.

 

 Wet Etching

Dry Etching 

액상의 화학용품 사용

기체 가스 사용 

 상대적으로 가격이 저렴

상대적으로 가격이 높고 방법이 까다로움 

 상대적으로 균일도 높음

극미세 회로 식각 가능 

 

이러한 식각 공정은 크게 반응을 일으키는 물질의 상태에 따라 습식과 건식 두 가지로 나눌 수 있는데요. 건식은 습식에 비해 많은 비용이 들고 방법이 까다롭다는 단점이 있지만 최근 수율의 증대와 극미세 회로 식각을 위하여 건식이 널리 사용되고 있다고 합니다!

 

<출처 - http://plasma.kisti.re.kr/webs/intro/plasma_is.jsp >


그렇다면 건식 식각에 대해 더 자세히 알아보도록 할까요? 건식 식각은 흔히 플라즈마(Plasma) 식각이라고도 합니다. 플라즈마? 어디서 많이 들어본 용어 같지만 다소 생소하게 들립니다. 플라즈마란 고체, 액체, 기체 상태를 넘어선 물질의 제 4상태를 말합니다.


진공 챔버(Chamber)에 Gas를 주입한 후 전기에너지를 공급하여 이 “플라즈마” 라는 상태를 만들어내게 됩니다. 플라즈마 상태에서는 많은 수의 자유전자, 이온, 중성원자 또는 이온화된 기체 분자가 존재하게 되는데요 이 때 중요한 건 이온화의 연쇄반응(Avalanche) 입니다.


먼저 챔버(Chamber)에 전기에너지를 공급하면 자기장이 생기게 되고 이러한 자기장은 자유전자에 영향을 주게 됩니다. 높은 에너지를 가진 자유전자들은 주변의 중성 원자나 분자와 충돌하게 되고 다시 여기서 나온 자유전자가 다른 중성의 원자나 분자와 충돌하게 됨으로써 연쇄적인 이온화 반응이 일어나 “플라즈마 상태” 를 만들어 내는 것이지요.


플라즈마 상태에서 떨어져 나온 반응성 원자 (Radical Atom)가 웨이퍼 표면의 원자들과 만나 강한 휘발성을 띠면서 표면에서 분리되게 됩니다. 이 과정에서 감광액 (Photo Resist)으로 보호되지 않은 막은 제거되는 것이지요. 바로 이러한 방법이 건식 식각이라 할 수 있겠습니다.

 

3. 식각(Etching)이 잘되어야 하는 이유?!
그렇다면 식각을 잘해야 하는 이유는 무엇일까요? 그 것은 바로 식각은 곧 수율과 이어지기 때문입니다. 잘못된 식각으로 인하여 회로 부분이 끊기거나 균일하지 않으면 결과적으로 생산된 반도체 칩에 오류가 생기고 원하는 동작을 수행할 수 없게 되는 현상을 초래하기 때문이죠. 따라서 식각을 진행할 때는 여러 주요인자들이 존재합니다.


 #1 균일도 (Uniformity)
균일도(Uniformity)란 식각이 얼마나 고르게 진행됐는지를 의미합니다. 균일도가 중요한 이유는 회로의 각 부분마다 식각된 정도가 다르다면 특정 부위에서 칩이 동작하지 않을 수 있기 때문이죠. 반도체 회로의 모든 부분에서 식각이 같은 속도로 같은 양만큼 진행된다면 정말 깔끔한 반도체를 얻을 수 있을 텐데요. 아쉽게도 오차는 존재하기 마련이기 때문에 이러한 균일도를 최대한 높이려고 많은 기업들이 앞다투어 노력하고있죠.

 

 #2 식각 속도(Etch Rate)
식각 속도는 일정시간동안 막이 얼마나 제거 됐는지를 의미합니다. 플라즈마 상태의 원자와 이온의 양 또는 그 원자나 이온이 가지고 있는 에너지에 따라 식각의 빠르기가 결정됩니다. 당연히 양이 많고 에너지가 높으면 식각 속도는 증가하게 됩니다. 따라서 이러한 양과 에너지를 조절하여 식각의 알맞은 속도를 맞출 수 있는 것이지요.

 

이 외에도 막질에 따라 서로 다른 식각량을 비율로 나타낸 선택비(Selectivity) 등의 고려 사항들이 존재하며 이러한 모든 세부 사항들을 좀 더 정교하게 진행하려는 많은 노력들이 식각(Etching)공정팀에서 이루어 지고 있죠. 
     
저와 함께한 식각(Etching)공정 이해가 되셨나요? 플라즈마, 균일도, 식각 속도 등 많은 어려운 개념들이 있었는데요 위로 올라가셔서 천천히 다시 한번 읽어보는게 어떨까요? :) 다음엔 증착(deposition) 공정에서 뵙겠습니다! 


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  1. 이미진 2017.09.27 17:30 신고 Address Modify/Delete Reply

    기사 퀄리티 최고! 남은 기사들도 기대하겠습니다 :->

2017 SK 하반기 신입사원 채용: 캠퍼스 리크루팅 SK하이닉스 편
“SK하이닉스.. 너무 가고 싶은데 다들 어디서 그렇게 정확한 정보를 얻는거지?” 정답은 바로 캠퍼스 리쿠르팅! 기다리고 기다리던 SK하이닉스의 2017 하반기 채용이 캠퍼스 리쿠르팅을 선두로 시작을 알렸다. 직무에 대한 자세한 설명과 궁금한 것을 직접 질문할 수 있는 시간까지! 캠퍼스 리쿠르팅 그 현장 속으로 들어가보자!

 

SK Careers Editor 김시우

 

 #1. 서울대학교에서 진행된 하이닉스 신입사원 모집 채용설명회 

SK하이닉스 과연 어떤 회사일까?

 


드디어 도착한 서울대학교 캠퍼스 리쿠르팅! 채용팀의 최태욱 선임님께서 설명회를 진행해 주셨다. 무려 채용담당자의 설명회라니! 해주시는 말씀 하나하나 유심히 귀 기울였다.

 

<SK하이닉스 채용담당자 최태욱 선임>


최태욱 선임님께서는 “행복”이란 단어로 SK하이닉스의 설명을 시작하셨다. SK하이닉스 구성원 모두가 행복할 수 있도록 기업 문화가 행복에 맞춰져 있고 선임님께서도 행복한 회사생활을 하고 계신다고 하셨다.  SK하이닉스는 상품기획부터 소자, 설계, 공정, 제품, 판매까지 모든 프로세스를 담당하고 진행하는 종합반도체 회사임을 설명하시면서 생산제품의 95%를 해외로 수출하는 글로벌 기업임을 강조하셨다. SK의 다양한 복지제도 또한 모두를 유혹했지만 가장 질문이 많았던 부분은 국내외 수학파견 제도였다. 


SK하이닉스 입사 후 국내외 석/박사 과정을 지원해주는 프로그램이 마련되어 있어 취업 후 학업을 포기한다는 마음은 가지지 않아도 된다는 점을 언급하셨다. 또한 SK하이닉스의 장점으로 통근시에 셔틀버스가 지원되어 지옥철을 피할 수 있다는 점, 그리고 입사후에도 기초부터 심화까지 반도체 전문가가 되기 위한 다양한 교육프로그램이 마련되어 있음을 강조하시면서 자신의 역량을 키우기에 좋은 회사임을 거듭해서 말씀하셨다. 또한 지원자들이 지원하는 회사에 대해 정확히 알고 관련분야의 기본지식이 확립되어 있다면 좋은 결과가 있을 것이라고 말씀해 주셨다. 현재 반도체 시장이 밝은 만큼 SK하이닉스의 영업이익도 늘어나면서 구성원에게 어떤 이점이 있을지 다들 알고 있을 거라고 웃으시며 유쾌한 농담도 던지며 설명회를 마무리 하셨다.

 

* 동영상 참조: https://m.facebook.com/story.php?story_fbid=1424745184288241&id=273425276086910


 #2. 설명회 FAQ 

설명회가 끝나고 SK하이닉스 상담부스에서 상담 담당자와 상담회에 참석한 분을 인터뷰할 수 있었다.

 

 

 #3. SK하이닉스 캠퍼스 리쿠르팅 상담담당자 인터뷰

 

<상담담당자 SK하이닉스 Alius TF팀 김소담 선임님>

 

Q. 자기소개 부탁드립니다.
A. 안녕하세요. 저는 SK하이닉스에서 Alius 소자 TF 팀에서 근무하고 있는 김소담 선임입니다.

 

Q. 이번에 부문에 따른 채용규모에 대해 말씀해주세요.
A. 이번에 공정통합 직군에서 세 자리 수 정도의 많은 인원을 선발하고 있습니다. 또한 마케팅과 전략기획 등 경영지원 직군에서 두 자리 수 인원을 선발 중입니다.

 

Q. 전보다 계속해서 채용규모가 확대되고 있는데 그 사실이 맞는지 또 그 이유가 궁금합니다.
A. 제가 알기로는 이렇게 많은 인원을 계속 뽑는 것은 거의 처음인 것 같습니다. 원래는 그 수가 변동이 많았는데 이번에는 계속해서 많은 인원을 뽑는 이유는 아무래도 반도체 시장이 호황이기 때문이 아닐까 생각합니다.

 

Q. 전공자의 경우 자신이 원하는 분야에 지원을 할 때 어필할 수 있는 것들은 어떤 것들이 있을까요?
A. 회사가 주로 DRAM 과 NAND를 만들고 있는 회사이기 때문에 반도체에 대한 기본 지식은 확실히 가지고 있는지 또는 반도체와 관련을 해서 어떤 공부를 했었는지 말씀하시면 더 좋은 성과를 낼 수 있을 것 같습니다.

 

Q. 그렇다면 혹시 반도체와 관련이 없는 경험들을 썼을 때 불이익이 있나요?
A. 아니요. 자기가 겪었던 경험이 협업과 관련이 있거나 기업 문화에 도움이 되는 내용이라면 충분히 어필할 수 있을 것 같습니다.

 

Q. 리쿠르팅에서 가장 많이 받은 질문들은 무엇이 있었는지 말씀해 주실 수 있나요?
A. 학점이 얼마나 많은 비중이 있는지, 또 SKCT의 난이도에 관한 많은 질문이 있었고, 어떤 업무를 하는지도 질문이 많았습니다.

 

Q. 그렇다면 학점에 관련해서 학점이 낮으면 불이익이 정말 많이 생길 수 있는지 궁금합니다.
A. 정말 학점이 너무 낮아서 이 사람의 성실도에 문제가 있겠다 싶을 정도만 아니라면 학점보다는 실제 이 사람이 어떤 태도를 가지고 있는지가 면접에서 많이 좌우가 되는 것 같습니다. 학점보다는 오히려 SKCT와 면접이 더 중요하다고 생각합니다.

 

Q. 마지막으로 지원자들에게 꼭 하시고 싶은 말이 있으시다면?
A. 일단 저희 회사 문화도 너무 좋고 와서 배울 것들도 정말 많아서 일하면서 보람도 느낍니다. 관련 지식을 공부하셔서 많이 지원을 해주셨으면 좋겠고 제일 중요한건 성실하게 일하는 분들이 들어와서 열심히 해주셨으면 좋겠다는 생각이 듭니다.

 

<상담회 진행 중이신 김소담선임님>

 

 #4. 상담회 참석자 인터뷰

 

<서울대학교 재료공학과 4학년 이현철군>

 

Q. 간단한 자기 소개 부탁드립니다.
A. 저는 서울대학교 재료공학부 4학년에 재학중인 이현철이라고 합니다.

 

Q. SK하이닉스에 상담회에서 얻고 싶은 정보는 무엇이었나요?
A. 일단 어디서 근무하는지, 실제 가서 현장에서 어떤 일을 하는지 감이 안 잡혀서 궁금했고 회사 생활에서 Work&Life 밸런스도 어떻게 진행되는지도 궁금했던 것 같습니다. 상담회와 설명회에서  근무지와 직무에 대해 설명을 들으니 감을 잡을 수 있었던 것 같고 Work&Life의 밸런스가 좋고 복지도 잘 되어 있는 것을 보고 SK하이닉스에 매력을 느낀 것 같습니다.

 

Q. 상담회에서 새롭게 알게 된 내용이 있나요?
A. 제가 공대생은 잘 하지 않는 마케팅 학회 활동을 했는데요 그 학회 활동을 하면서 여러사람들과 의견을 조율을 하거나 밤새서 같이 한가지 프로젝트에 몰두했던, 공대생이 쉽게 할 수 없었던 경험을 했다고 생각을 했고 그 것을 어떻게 SK하이닉스 지원 시 녹여낼 수 있을지 알게 된 것 같습니다. 

 

Q. 혹시 입사 후 하고 싶은 업무가 무엇인지 알 수 있을까요?
A. R&D 부분이 워낙 범주가 넓고 제가 알고 있는 것은 협소해서 어느 부문에서 일하고 싶다는 생각은 구체적으로 없는데요 개인적으로 R&D 분야가 잘 맞으면 R&D분야에서 일하고 싶고 Job rotation이 가능하다는 채용담당자님의 말씀처럼 저도 혹시 R&D 직무가 맞지 않으면 다른 인문학적인 직무로도 옮길 수 있다는 생각이 들었습니다.

 

Q. 그러면 기본적으로 R&D 분야로 지원하신 것인데 대학원에 진학하지 않고 학부 취업을 결심하신 이유를 알 수 있을까요?
A. 제 주변에 대학원 친구들의 얘기를 들어보면 저랑 잘 맞지 않는다고 생각이 들었습니다. 회사생활이 저와 좀 더 맞지 않나, 재밌지 않나 생각이 들어서 대학원을 포기하고 취업에 도전하게 된 것 같습니다.

 

인터뷰에 흔쾌히 응해주신 김소담 선임님 이현철님께 진심으로 감사드립니다.


저와 함께한 캠퍼스 리쿠르팅 유익하셨나요? 캠퍼스 리쿠르팅에 참석하지 못했거나 SK하이닉스 지원에 갈피를 못잡으셨던 분들에게 제 포스팅이 유익했길 바랍니다. 


SK하이닉스 하반기 채용 지원은 9월 1일부터~9월 22일까지라고 합니다. 

자세한 일정은 http://skcareersjournal.com/923 을 참고해주세요. 

SK하이닉스에 지원하셔서 좋은 성과가 있길 바라며 다음 포스팅에서 뵙겠습니다! 


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  1. 김시우 멋지다 2017.09.20 21:35 신고 Address Modify/Delete Reply

    에디터님 정말 좋은 글 감사합니다:)

2017 SK 하반기 신입사원 모집: SK하이닉스 채용설명회 영상 공개!

지난 13일이죠, 서울대학교에서 SK하이닉스 채용설명회가 진행됐습니다. 많은 취준생이 자리한 가운데 꿀 정보를 공개했다고 하는데요, 놓쳤다고 아쉬워하지 마세요. SK Careers Editor가 영상으로 담아 왔으니 말입니다. SK하이닉스 채용설명회와 상담은 9월 19일까지 계속됩니다. 


SK Careers Editor 



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SK하이닉스 복지 혜택 및 시설, 이거 실화냐?

 

 

SK하이닉스의 구성원이 되고자 한다면 주목하라! ‘SK하이닉스’하면 공장에서 반도체 만드는 모습만 떠오른다고? That’s no~ no! 꿈의 직장인 SK하이닉스의 복지혜택이 엄청나다는 소식을 듣고 오늘은 그 실상을 파헤치기 위해 본 에디터가 나섰습니다. 구성원들의 업무 효율을 높이기 위한 SK하이닉스의 복지혜택에는 어떤 것이 있는지 이천 본사로 달려가보았습니다. 함께 살펴볼까요? 

 

SK Careers Editor 이미진

 

1. 통근버스

‘SK하이닉스의 복지’하면 이것을 빼놓을 수 없겠죠? 바로 ‘통.근.버.스’입니다. SK하이닉스는 구성원들의 편리하고 안전한 출퇴근을 위해 통근버스를 운영하고 있습니다. 무료로 운영되는 것뿐만 아니라, 서울<->이천행만 있을 줄 알았던 버스 노선이 전국적으로 운영되고 있다는 사실! 


또한 ‘SKY Happy Bus’라는 어플을 통해 본인이 위치한 정류장에서 1분 단위로 버스가 언제 도착하는지 쉽게 알 수 있습니다. 어플을 잘 사용한다면 출, 퇴근시 발생하는 불필요한 시간 낭비를 막을 수 있단 말씀! 아, 그리고 막차를 놓쳤을 때에는 기숙사에 사번만 적으면 이용 가능하며, 수건, 침구류 등까지 모두 새 것으로 제공 받을 수 있대요.(속닥속닥)

 

구내식당 모습

 

2. 기숙사

여유로운 출, 퇴근을 원하는 당신에게! 바로 기.숙.사. 전기료? 가스비? 수도세? 얼마나 쓰든 상관 없어~ 월 몇 천 원만 내면 된다구~ 아, 식사는 어떡하냐고요? 걱정 마세요. 무려 점심은 무료, 아침 및 저녁은 단돈 500원이면 해결 가능하다는 말씀…! 이거 정말인가요? 실화예요? SK하이닉스 기숙사와 함께라면 생활비 걱정도 없다!! 기숙사 또한 SK하이닉스 구성원들이 집, 관리비 등과 같은 다른 걱정 없이 맡은 업무에 집중할 수 있도록 정말 많은 신경을 쓰고 있는 것이 느껴졌습니다.

 


여담으로... 본 에디터도 구내식당에서 저녁식사를 맛있게 하고 왔는데요, 제가 맛본 뚝배기 불고기는 단돈 500원이라는 말이 믿기지 않을 정도로 훌륭했어요! 저렴한 가격에 훌륭한 저녁을 먹을 수 있는 까닭은 구성원들의 복지를 위해 아끼지 않고 투자하기 때문이라는 사실이래요! 뚝불을 먹은 저는 다른 분들이 먹고 있던 낙지 생 야채 비빔밥도 먹고 싶었습니다. 흑 ㅠ_ㅠ

 

 

3. 다양한 시설

헬스장은 물론, 커피숍, 아이스크림가게, 볼링장 등 없는 것 빼고는 다~ 있는 SK하이닉스 이천 캠퍼스! 지금부터 저와 함께 살펴볼까요?

 


짜잔~ 이곳은 헬스장입니다! 다양하고 많은 기구들이 눈에 띄는데요. 헬스장의 모습 더 살펴볼까요?

 


이런 시설이라면, 저도 이번 다이어트 성공할 수 있을 것 같아요…! 영차, 영차.

 


러닝머신도 이렇게 많이 있네요. 사람이 많아서 운동할 자리가 없을 일은 절대 없을 것 같아요. SK하이닉스 이천 캠퍼스에서라면 몸 관리도 문제 없을 것 같죠? 다른 어디에 있는 헬스장도 이렇게 훌륭한 시설을 갖추기 힘들지 않을까 생각합니다. 구성원들의 건강을 위한 SK하이닉스의 투자! 이 정도면 인정합니다, 인정! 그럼 다음은 다양한 편의시설 보러 가실게요.

 


짠, 이곳은 사내에 있는 커피숍입니다. 직원이라면 할인도 된다는 사실~ 많은 분들이 근무하고 있는 SUPEX 건물에 위치해 있어서 편리하게 이용할 수 있습니다. 500원에 식사를 마치고 이곳에서 커피 한 잔 하면 업무로 쌓인 피로도 안녕~

 


여기는 카페테리아 및 다양한 복지시설이 위치해 있는 복지관입니다. 어떤 장소들이 있는지 살짝 들여다 볼까요?

 

<쇼핑센터>

 

<새마을 금고>

 

<아이스크림 가게>

 

<베이커리>

 

<볼링장>


요한 건 다 팔 것 같은 쇼핑센터부터, 편하게 돈을 입금하고 출금할 수 있는 새마을금고, 아이스크림 가게, 베이커리, 그리고 다양한 운동시설까지. 우와~ 이 정도면 없는 게 없는 것 같은 복지회관입니다! 구성원들의 복지를 위한 SK하이닉스의 노력이 보이는 공간이었습니다.

 

 

4. 동아리 및 강좌
다음으로 제가 소개시켜드릴 SK하이닉스의 복지는 바로 다양한 동아리와 강좌입니다. SK하이닉스에는 운동동아리부터 다양한 취미동아리가 있습니다. 그 뿐만 아니라, 사내에서 운영되는 다양한 강좌들이 있는데요. 꽃꽂이, 제과제빵, 생활요리, 바리스타, 마카롱클래스, 캘리그라피, 통기타, 피아노, 요가, 필라테스, 댄스, 스피닝 등의 강좌들이 운영되고 있습니다. 엄청 다양하네요! 캠퍼스 내에서 강좌가 열리니, 멀리 갈 필요가 없어 부담이 되지도 않을 것 같아요! 내가 평소에 즐겨 하던 활동들을 이어갈 수 있는 동아리부터 배우고 싶은 것들을 배울 수 있는 강좌까지! 이 정도면 업무로 쌓인 스트레스도 시원하게 이겨낼 수 있을 것 같은데요? SK하이닉스의 섬세한 배려가 느껴지죠?

 

5. 지하철역

마지막으로 소개해드릴 것은 SK하이닉스 근처에 지하철역이 생겼다는 사실! 그 이름도 찬란한 ‘부발역’입니다. 부발역이 생기면서 지하철로 서울 시내에서 출퇴근이 가능해졌으며, 매 시간마다 부발역<->SK하이닉스로 버스도 운행되고 있습니다. Wow

 

우와~ 엄청나게 다양한 혜택 이거 정말… 실화인가요? SK하이닉스 취업을 꿈꾸는 많은 취업준비생들의 가슴을 더 뜨겁게 만드는 포스팅이 아니었나 싶습니다. SK하이닉스 구성원이라고 하면 열심히 연구하고 일하는 모습만 상상했었는데 구성원들을 위한 복지혜택 및 시설이 이렇게나 다양하다니! 상당한 금액을 투자해서라도 구성원들의 복지에 이렇게 많은 노력을 하고 있는 줄은 상상도 못했습니다. 복지에 돈을 아끼지 않고 투자하는 모습, 업무에 집중할 수 있도록 섬세하게 배려하는 모습을 직접 두 눈으로 확인하니 이거 참 꼭 취업하고 싶어지는데요? 여러분~ 저 SK하이닉스 취업 해야겠습니다! 그럼 지금까지 이천에서 SK하이닉스의 복지혜택을 소개해드린 에디터 이미진이었습니다. 안녕~


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반도체? 이 정도는 알고 가야지: (3) 포토(Photo Lithography) 공정

 여러분~ 오랜만입니다! 저번 포스팅에서는 다양한 불순물로부터 웨이퍼를 보호하기 위해 산화막을 만들어내는 <산화공정>에 대해서 다루었었는데요. 모두 기억하시나요? 오늘은 그렇게 산화막이 형성된 웨이퍼 위에 반도체 설계 회로를 찍어내는 <포토공정>에 대해 다뤄보도록 하겠습니다. 오늘도 저만 믿고 따라온다면 반도체 8대 공정? 문제 없다구~

 

SK Careers Editor 이미진

 

 

1. 포토 공정이란?

: 제가 서론에서 포토공정을 반도체 설계 회로를 “찍어내는”이라고 표현한 것 모두 기억하시나요? ‘찍다’하면 기억나는 게 무엇인가요? 바로 카메라입니다. 포토공정은 필름카메라로 사진을 찍어 현상하는 것과 같은 원리로 진행됩니다. 조금 구체적으로 이야기하면 반도체 표면 위에 사진 인쇄 기술을 이용하여 회로 패턴을 만들어 넣는 기술을 말합니다. 빛에 반응하는, 필름 카메라에서 바로 필름에 해당하는 감광성 고분자 물질(PR, Photoresist)를 얇게 바른 후 마스크를 올려 놓고 그 위에 빛을 가하여 원하는 패턴을 형성하는 과정을 말합니다.

 

2. 감광성 고분자 물질(PR, Photo Resist)
: PR은 3가지 물질로 이루어져 있습니다. PR을 보관하기 위해 외부 빛의 노출을 방지하고자 사용하는 액체인 Solvent, 폴리머 결합으로 이루어진 물질인 Resin, 그리고 마지막으로 빛에 반응하는 화합물 Photoactive Compound(PAC), 이 PAC는 크게 Positive PR과 Negative PR로 나누어집니다.

 

 

3. 포토공정 과정
포토공정 과정은 Surface Preparation -> Spin Coating -> Soft Baking -> Alignment & Exposure -> Post-expose Baking -> Develop -> Rinse-dry -> Hard Baking으로 이루어져있습니다. 이렇게 보니 무슨 말인지 도통 모르겠죠? 그래서 쉽게 설명하기 위해 이 전체 공정을 위에서 설명한 PR과정, 노광, 웨이퍼에 회로도를 찍어내는 Develop 과정. 이렇게 크게 세 개의 과정으로 구분할 수 있습니다.

 

1) 노광
: 노광 과정에는 Mask Layer 사이를 정확한 위치에 맞추는 Alignment과정과 감광막에 빛을 쏘아 패턴이 형성되도록 하기 위한 과정인 Exposure로 나눌 수 있습니다. 이 과정을 거치면 패턴이 형성됩니다. 노광은 필요에 따라 세 가지 모드로 진행될 수 있습니다.

 

 

2) Develop
: 현상(Develop)은 필름 카메라에서 사진을 현상하는 과정과 같으며, 이 공정에서 패턴의 모양이 결정됩니다. 현상 과정을 지나면, 노광에 의해 빛에 노출된 부분, 노출되지 않은 부분을 선택적으로(Positive, Negative PR) 제거하여 회로 패턴을 형성하게 됩니다.

 

지금까지 웨이퍼 위에 반도체 회로를 찍어내는 포토공정에 대해 설명해드렸습니다. 헷갈리는 부분이 많았을 것 같은데요. 모두 잘 따라오셨나요? 헷갈릴 수 있는 Positive, Negative PR, 그리고 다양한 노광 방법들은 다시 한 번 위로 올라가서 읽어보는 건 어떤가요? 8대 공정 중 총 3개의 공정이 끝났습니다. 남은 5개의 공정도 열심히 Follow Me~!




 


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  1. 하재식 2017.08.17 01:30 신고 Address Modify/Delete Reply

    프로젝션에서 가운데 파란건 무엇이죠?!
    빛의 회절을 막아주는 물질인가요?!
    궁그미..

    • 이미진 2017.08.17 11:29 신고 Address Modify/Delete

      프로젝션 렌즈입니다. 이 렌즈를 통해 원하는 부분에 원하는 크기만큼의 빛을 조사할 수 있게 됩니다. 기사 읽어주셔서 감사합니다 :-)

  2. 하재식 2017.08.17 15:28 신고 Address Modify/Delete Reply

    오호 감사합니다 ! 기사 재밌어요 !

  3. 너구리 2017.09.13 05:12 신고 Address Modify/Delete Reply

    Surface Preparation과 Spin Coating이 뭔가요? 혹시 웨이퍼 준비 또는 레티클 준비 그리고 spin coating은 PR 도포를 얘기하시는 건가요?

    그리고 Projection lens는 뭔가요? 모든 레티클 아래에 렌즈가 위치하지 않나요? Projection lens라는 것은 또 다른 렌즈인가요?

    나머지 공정들은 어디를 클릭해야 볼 수 있나요? 못 찾겠어요. Photo 공정 다음 또는 현상공정 다음이요..

    • 이미진 2017.09.15 14:16 신고 Address Modify/Delete

      기사 읽어주셔서 감사합니다. surface preparation과정은 말 그대로 포토 공정에 앞서 웨이퍼를 준비하는 과정입니다. 웨이퍼를 클리닝하고 수분을 제거하는 등의 공정이 포함됩니다. spin coating은 말씀하신 것처럼 PR을 도포하는 과정입니다.

      그리고 두번째 질문은 잘 이해가 되지 않아서 제가 아는 한에서 설명해드리자면, 노광 방법에는 크게 두가지의 방법이 있습니다. 영상과 투영방법인데요. 기사에서 설명한 좌측의 두 방법이 영상법, 그리고 projection lens를 사용한 방법이 투영법입니다. 좌측의 두 방법은 렌즈를 사용하지않고 직접 노광하며 mask 하나 당 웨이퍼에 한 번 노광하게 됩니다. 반면에 projection lens를 이용한 방법은 그 렌즈를 통해 mask를 확대했다가 다시 축소하는 방법으로 웨이퍼 안에서 아주 좁은 공간에 그리고, 또 옆으로 가서 그리고 하는 방법입니다. 질문에서 reticle이라는 단어를 사용하신 것으로 보아 아마 이 세번째 노광법을 말씀하신 것 같습니다. 레티클은 이 투영노광법 사용을 위해 여러 번 반복적으로 위치를 바꿀 수 있도록 만든 마스크입니다. 이 의도로 물어보신 것이 맞다면 그 방법은 모두 렌즈가 위치하는 것이 맞고, 그 렌즈가 projection lens입니다. 제가 기사에서 설명한 것은 그 방법 이외에 렌즈를 사용하지 않고 직접 노광하는 방법도 있다는 것입니다.

      이상입니다. 저도 답변 드린 내용은 정확하지 않은 정보일 수 있기 때문에 의문이 드신다면 답변 달아주세요! 그리고 포토 공정 다음 기사는 아직 업로드 되지 않은 상태이며, 곧 업로드 예정입니다!^_^

SK하이닉스 설계 직무 여성 엔지니어를 소개한다!

‘엔지니어=남자’라는 편견을 버려라! SK하이닉스에서 설계 직무를 담당하고 있는 여성 엔지니어를 소개합니다. 남성 엔지니어도 많지만, 성에 관계없이 누구나 도전할 수 있는 분야인 엔지니어. 그 중, 건물을 짓기 전에 건물을 설계하는 것처럼, 반도체 제작 전에 반도체를 설계하는 여성 설계 엔지니어를 만나보았는데요. 현재 SK하이닉스에서 일하고 있는 김지은 선임님을 만나 설계 직무의 여성 엔지니어로서의 이야기를 들어보았습니다.


SK Careers Editor 이미진



Q. 우선 인터뷰에 응해주셔서 감사합니다. 현재 일하고 있는 분야를 포함하여 간단한 자기소개 부탁 드립니다.

안녕하세요. DRAM 설계 본부 TCD그룹 Mobile Core Design 김지은 선임입니다. ‘Tech shrink’라는 말 많이 들어 보셨죠? 더 작은 DRAM을 만들기 위해 새로운 tech를 계속해서 개발하는데, 새로운 tech가 개발되면 그 첫 번째 제품을 설계하는 곳입니다. 그리고 그 중에서도 Mobile제품을 개발하는 부서에서 일하고 있습니다.


<DRAM 설계 본부 TCD그룹 Mobile Core Design 김지은 선임>


Q. 엔지니어의 꿈을 가지게 된 계기가 궁금합니다.

저는 어릴 때부터 숫자와 관련된 문제나 정답을 것을 좋아했습니다. 논리적으로 증명하고 문제를 해결해가는 것들이 재미 있었고 그래서 고등학교 시절 이과를 선택했습니다. 특히 그 중에서도 순수과학이 아닌 공학으로 진학했던 이유는 저에게 있어, 원리나 현상 그 자체를 연구하는 것보다는 기계, 장치 등을 대상으로 실제 무언가를 생산하는 것에 직접 관련된 연구가 훨씬 더 매력적으로 느껴졌기 때문입니다.


Q. 반도체 하면 공정을 포함하여 다양한 직무가 있을 텐데, 그 중 설계 직무에 관심을 가지게 되었던 이유가 있나요?

대학시절 전자회로 수업을 들으면서 p-n junction에서 생기는 electron과 hole의 움직임에서부터 시작해서 전류의 흐름, 트랜지스터, data저장까지 연결되는 반도체라는 분야에 처음 관심을 갖게 되었습니다. 그 중에서도 회로설계에 재미를 느끼게 되면서 설계 직무까지 오게 되었습니다. 특정 function을 구현하기 위해 고민을 하고 설계를 하고 시뮬레이션 등을 통해 그 결과를 바로 눈으로 확인할 수 있었던 것이 가장 매력적으로 다가왔습니다.



Q. 반도체 엔지니어로 일하기까지 많은 노력이 있었을 것 같습니다. 대학생활을 포함하여 학창 시절에 (반도체 엔지니어에 어떻게 흥미를 가지게 되었는지, 그리고) 어떤 노력을 하셨는지 궁금합니다.

설계분야에 관심을 갖기 시작하면서, 재미있는 과목들이 생겼고 자연스럽게 잘하고 싶다는 마음으로 이어졌습니다. 그래서 적어도 이 분야에서는 다른 친구들보다 더 잘하고 싶다는 생각이 들었습니다. 그러한 생각은 과목을 대하는 제 자세를 바꿨습니다. 대충 넘어가는 것이 아니라, 아주 기본적인 내용도 스스로 납득이 될 때까지 하나하나 확실히 이해하기 위해 노력했습니다. 어느 분야나 마찬가지겠지만 기본적인 것을 정확히 알고 넘어가는 것이 중요한 것 같습니다. 


또한, 학창시절에는 무엇보다 내가 앞으로 무슨 일을 하고 싶은지, 어떤 분야에 관심이 있는지 찾는 것이 가장 중요한 일이라고 생각합니다. 다양한 과목을 들어보고, 다양한 경험을 하면서 스스로를 알아가는 시간을 보내셨으면 좋겠습니다.

 


Q. 사실 비전공자가 생각하기에 ‘공정’하면 직접 만드는 일이라 감이 오지만, ‘설계’하면 구체적으로 어떤 일을 하는 것인지 가늠이 안 되는데요. 설계 직무에 대해 간단히 설명해주실 수 있을까요?

반도체 직무는 크게 ‘설계, 소자, 공정, 제품’ 4가지로 구분할 수 있습니다. 보통 이런 직무를 쉽게 설명하기 위해 건물을 짓는 일에 많이 비유하는데, 그 중 ‘설계’ 직무는 건물 설계 도면을 그리는 일에 해당합니다. 어떤 건물이 지어지기 위해서는 건축자재, 건물의 높이, 크기, 목적 등을 고려한 설계 도면이 필요합니다. 마찬가지로 target을 만족하는 DRAM의 설계 도면을 그리는 것이 설계 직무라고 설명할 수 있습니다.


Q. 다양한 반도체 회사 중 ‘SK하이닉스’를 선택하신 이유가 있다면 무엇인가요?

SK 그룹은 ‘사람 중심의 기업문화’, ‘행복’, ‘도전’ 등의 키워드를 바탕으로 밝은 기업 이미지를 갖고 있습니다. 그것뿐만 아니라, SK하이닉스는 한때 힘들었던 시절을 극복하고, 현재 세계적인 반도체 회사가 되었습니다. 이러한 경험은 저에게 SK하이닉스를 ‘밝고 도전적인, 그리고 어려움을 극복할 힘이 있는 회사’라는 생각을 갖게 하였고, 그러한 생각을 바탕으로 입사하게 되었습니다. 그리고 입사한 지금도 그 생각엔 변화가 없습니다.


Q. 사실 대학교에서 배운 내용으로 실제 업무를 수행하는 데에는 많은 어려움이 있을 것이라 생각합니다. 그럼에도 불구하고 SK하이닉스에서 업무를 수행할 때 도움이 될 만한 과목들이 있다면 어떤 과목이 있을까요? 또한, 대학시절 그러한 어려움을 조금이라도 줄이기 위해 키워야 할 역량이나 자질이 있을까요?

대학교에서 배울 수 있는 과목은 대부분 기초과목이기 때문에 실제 업무에 직접적으로 도움이 되지는 않지만 아까 말했듯이, 어느 분야든지 기본적인 것이 바탕이 되어야 다음 스텝을 이해할 수 있기 때문에 굉장히 중요합니다. 그래서 기본이 되는 반도체 및 회로에 관련된 기초 과목들을 정확하게 이해하면서 공부하는 것이 중요합니다. 또한 개인적으로 관심이 있다면 반도체 산업 관련 issue 및 TREND에 관심을 갖고 파악하는 것도 좋습니다.  필요한 역량이나 자질로는 모르는 것을 알 때까지 파고들 줄 아는 끈기와 호기심, 그리고 일에 대한 적극성이라고 생각합니다.


 

Q. SK하이닉스에 입사하여 업무를 수행하면서 가장 큰 보람을 느꼈던 때는 언제였나요? 

처음으로 실제 DRAM 제품 프로젝트에 직접 참여했던 경험입니다. 그때 제가 특정 부분을 맡아서 진행하였는데, 맡은 임무를 완료하고 처음 메일을 보냈을 때 가장 보람을 느꼈습니다. 그 동안은 실제 업무를 익히는 데에 많은 시간을 쏟았었는데, 그렇게 배웠던 경험을 바탕으로 실제 프로젝트에 참여하고, 그 안에서 제가 무엇인가를 해냈다는 생각이 들어 뿌듯했습니다.


Q. 앞으로 반도체 산업의 전망은 어떻게 생각하시는지, 그리고 한국에서 반도체 산업을 주도해나가는 SK하이닉스의 전망은 어떻게 보시는지 궁금합니다.

SK하이닉스는 DRAM 분야에서 세계 2위로 강세이지만, DRAM은 갈수록 미세화 공정의 한계에 다다르고 있고 다른 회사와의 차별화가 어려운 상황입니다. 그런 상황 속에서 SK하이닉스는 “Deep change”라는 문구를 내세우며 각 분야에서 끊임없이 변화하고 발전하기 위해 노력하고 있습니다. 또한 앞으로는 현재 빠른 속도로 발전하고 있는 NAND의 비중이 커질 것으로 예상되고 있습니다. 현재 SK하이닉스의 NAND점유율은 4-5위 정도이지만 3D-NAND 등의 기술력을 바탕으로 시장 점유율을 늘려나갈 수 있을 것이라고 기대됩니다. 


Q. 마지막으로, 여성 엔지니어를 꿈꾸고 있는 많은 학생들에게 응원의 말씀 부탁 드립니다.

어떤 것이든 꿈꾸는 것이 있다면 그 꿈을 이루기 위해 현재 위치에서 할 수 있는 것을 최선을 다하는 것이 가장 중요합니다. 한 단계 높은 목표를 위해 끊임없이 노력하고 도전한다면 언젠가는 자신이 꿈꾸던 모습을 해내고 있는 스스로를 발견할 수 있을 것입니다. 여성이라서 남성엔지니어보다 더 어려운 것은 없습니다. 성별의 문제가 아니라, 누가 더 간절함을 가지고 업무에 임하고 있는지의 문제라고 생각합니다. 열심히 노력해서, 많은 여성 후배 엔지니어들을 회사에서 만날 수 있는 날을 기대하겠습니다.


지금까지 SK하이닉스에서 근무하고 계신 김지은 선임의 이야기를 들어보았습니다. 다양한 어려움과, 그것을 극복해낼 수 있었던 이야기를 포함하여 많은 이야기를 전해들을 수 있는 시간이었는데요. 인터뷰를 진행하면서 본 에디터는 같은 여성으로서, 그리고 같은 엔지니어를 꿈꾸는 사람으로서 많은 것을 깨닫고 배울 수 있었습니다. 현재 여성 엔지니어로 일하고 있는 사람들부터, 앞으로 여성 엔지니어의 꿈을 꾸고 있는 취업 준비생들까지 김지은 선임님이 전해준 이 이야기들이 큰 힘이 되길 바랍니다.



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반도체? 이 정도는 알고 가야지: (2) 산화(Oxidation) 공정

지난 시간에 반도체 8대 공정 중 첫 번째 공정인 ‘웨이퍼 공정’에 대해 소개해드렸었는데요. 오늘은 그렇게 힘들게 만들어진 웨이퍼 표면을 보호하기 위한 공정인 ‘산화 공정’을 소개해드리려 합니다. 오늘도 눈 똑바로 뜨고 흡수할 준비 되셨나요? 그럼 시작~


SK Careers Editor 이미진

 



1. 산화 공정이란?

가장 먼저 산화 공정이 어떤 말인지 알고 가야겠죠? ‘산화 공정’이란, 실리콘(Si) 기판 위에 산화제(물(H2O), 산소(O2))와 열에너지를 공급하여 이산화규소(SiO2) 막을 형성하는 공정을 말합니다. 

이때 만들어지는 산화막은 회로와 회로 사이에 누설 전류가 흐르는 것을 막아줄 뿐만 아니라, 이온주입공정에서 확산 막아주는 역할, 식각 공정에서 엉뚱한 곳이 잘못 식각 되는 것을 막는 식각 방지막 역할을 합니다. 이렇게 다양한 종류의 보호막이 되어 웨이퍼를 지켜주는 것이죠. ‘산화’의 이해가 어려우시다면, 철(Fe)이 녹스는 현상을 생각하시면 됩니다.


2. 산화 공정 방법

: 산화 공정 방법에는 열을 통한 열산화(Thermal Oxidation), 화학적기상증착산화(Chemical Vapor Deposition), 전기화학적산화(Electrochemical Oxidation) 등의 종류가 있습니다. 그 중 가장 많이 사용되는 방법은 고온에서 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성하는 열산화 방법입니다. 이러한 열산화 방법은 산화반응에 사용되는 기체에 따라 크게 습식 산화와 건식 산화로 분류할 수 있습니다.




1) 건식 산화(Dry Oxidation)

: 건식산화는 순수한 산소(O2)만을 이용하기 때문에 산화막 성장속도가 느려 주로 얇은 막을 형성할 때 쓰입니다. 성장속도가 느릴 때 얇은 막을 형성하기 유리한 까닭은, 성장속도가 느릴수록 막의 두께를 조정(Control)하기 쉽기 때문입니다. 쉽게 생각하면, 내가 세숫대야에 물을 아주 조금만 채우고 싶을 때, 수도꼭지를 한번에 많이 열어 콸콸 붓기보다, 아주 조금만 열어 조금씩 떨어지게 하는 상황을 생각하면 쉽게 이해가 될 것입니다. 이렇게 얇은 막을 형성할 수 있는 건식 산화는 전기적 특성이 좋은 산화물을 만들 수 있습니다.


2) 습식 산화(Wet Oxidation)

: 습식산화는 산소(O2)와 함께 수증기(H2O)를 사용하기 때문에 산화막 성장속도가 빠르고 두꺼운 막을 형성할 수 있지만, 건식 산화에 비해 산화층의 밀도가 낮습니다. 따라서 산화막의 질이 건식산화에 비해 비교적 안 좋다는 단점이 있습니다. 동일한 온도와 시간에서 습식산화를 통해 얻어진 산화막은 건식산화를 사용한 것보다 약 5~10배 정도 더 두꺼운 경향을 보입니다.


 


3. 이 외에 산화막 성장 속도에 영향을 미치는 것들

: 반도체 사이즈는 점점 작아지고, 이 와중에 산화막은 보호막의 역할을 위해 꼭 필요하므로 산화막의 두께는 반도체 사이즈를 결정하는 데에 아주 중요한 요소로 작용합니다. 따라서 산화막의 두께를 줄이기 위해 산화 공정의 다양한 변수를 조율하게 됩니다. 2번 항목에서 설명 드렸던 습식 산화, 건식 산화도 그 변수의 한 종류라고 말할 수 있으며, 그 이외에도 웨이퍼의 결정 구조, 더미 웨이퍼(가스를 정면으로 닿거나 나중에 닿는 부분의 산화 정도 차이를 줄이기 위해 희생 웨이퍼인 더미 웨이퍼를 활용하여 가스의 균일도를 맞추어 줄 수 있음), 도핑 농도, 표면 결함, 압력, 온도, 시간 등이 산화막의 두께에 영향을 줄 수 있습니다.


오늘은 저와 함께 산화막이 어떤 역할을 하는지, 산화막이 어떻게 형성되는지, 그리고 이러한 산화막의 형성 속도는 어떤 것들에 영향을 받는지에 대해 알아보았는데요. 반도체 8대 공정 중 2개의 공정이 끝났습니다. 다음 시간에는 반도체 위에 회로 패턴을 만드는 식각 공정에 대해 다뤄보겠습니다. 더 빠른 이해를 위해 오늘 다뤘던 내용 한 번 더 읽어보길 바라며 오늘은 이만 안녕~




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  1. 재식 2017.08.03 18:49 신고 Address Modify/Delete Reply

    오.. 건식이 성장속도가 느린게 단점이라고만 생각했는데 장점이 될 수도 있군요 옹

    • 이미진 2017.08.17 11:34 신고 Address Modify/Delete

      네! 반도체 크기가 나노 단위로 작아지면서, 얇은 맏을 형성하는 건식 산화가 일반적으로 이용되고 있습니다. 성장 속도가 느리지만 더 얇고 더 성능이 좋은 막을 형성할 수 있기 때문입니다.

  2. 하재식 2017.08.17 15:31 신고 Address Modify/Delete Reply

    앗 감사합니다

  3. 에반 2017.09.21 11:18 신고 Address Modify/Delete Reply

    블로그로 퍼가도 되나요?